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鈦靶材在真空電鍍領(lǐng)域的應(yīng)用特點
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鈦靶材在真空電鍍領(lǐng)域的應(yīng)用特點

發(fā)布時間 :2023-02-11 17:36:20 瀏覽次數(shù) :

隨著時代的發(fā)展,為了滿足更安全、更節(jié)能、降低噪聲、減少污染物排放的要求,在表面處理工藝上,真空電鍍已經(jīng)成為環(huán)保新趨勢。與一般的電鍍不同,真空電鍍更加環(huán)保,同時,真空電鍍可以生產(chǎn)出普通電鍍無法達到的光澤度很好的黑色效果。

鈦靶材

真空電鍍基本是一種物理沉積現(xiàn)象,既是在真空狀態(tài)下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。而在這電鍍的過程中,靶材是至關(guān)重要的存在,那么鈦靶材在真空電鍍過程中的應(yīng)用有哪些?寶雞巨偉鈦業(yè),結(jié)合相關(guān)資料,將鈦靶材在真空電鍍中的應(yīng)用特點,分享如下:

1、金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。

2、再適當(dāng)?shù)脑O(shè)定條件下可將多元復(fù)雜的靶材制作出同一組成的薄膜。

3、利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體,可以制作靶材物質(zhì)與氣體分子的混合物或化合物。

4、鈦靶材輸入電流及濺射時間可以控制,容易得到高精度的膜厚。

5、較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。

6、濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排。

7、基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上,且由于濺射粒子帶有高能量,在成膜面會繼續(xù)表面擴散而得到硬且致密的薄膜,同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結(jié)晶膜。

8、薄膜形成初期成核密度高,可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜。

9、鈦靶材的壽命長,可長時間自動化連續(xù)生產(chǎn)。

10、鈦靶材可制作成各種形狀,配合機臺的特殊設(shè)計做更好的控制及有效率。

鈦靶材作為新興科技產(chǎn)品,將在更多領(lǐng)域發(fā)揮作用,若需更深入了解鈦靶材及選購產(chǎn)品,請隨時關(guān)注巨偉鈦業(yè)官網(wǎng)或電話咨詢(www.bjjwty.com ,15891077471 張經(jīng)理)

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